Tricine|CAS:5704-04-1|在半导体晶片领域的应用

三（羟甲基）甲基甘氨酸（又名N-[3(羟基甲基)甲基]甘氨酸，CAS:5704-04-1，英文简称Tricine）是一种优良的两性生物good's缓冲剂。CN106085245B专利中介绍了一种铜化学机械抛光(CMP)制剂，其主要成分如下：

1.0.001至0.25重量％的颗粒材料：颗粒材料选自火成二氧化硅、胶体二氧化硅、火成氧化铝、胶体氧化铝、氧化铈、二氧化钛、氧化锆、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、云母、水合硅酸铝及其混合物；

2.0.01至16重量％的至少两种氨基酸：氨基酸独立地选自氨基乙酸、丝氨酸、赖氨酸、谷氨酰胺、L-丙氨酸、DL-丙氨酸、β-丙氨酸、亚氨乙酸、天冬酰胺、天冬氨酸、缬氨酸、肌氨酸、N-二(羟乙基)甘氨酸、Tricine、脯氨酸及其混合物；

3.0.25至5重量％的氧化剂：氧化剂选自过氧化氢、重铬酸铵、高氯酸铵、过硫酸铵、过氧化苯甲酰、溴酸盐、次氯酸钙、硫酸高铈、氯酸盐、三氧化铬、三氧化铁、氯化铁、碘酸盐、碘、高氯酸镁、二氧化镁、硝酸盐、高碘酸、高锰酸、重铬酸钾、铁氰化钾、高锰酸钾、过硫酸钾，铋酸钠、亚氯酸钠、重铬酸钠、亚硝酸钠、过硼酸钠、硫酸盐、过氧乙酸、脲-过氧化氢、高氯酸、二叔丁基过氧化物、单过硫酸盐、二过硫酸盐及其组合

4.0.00001至2重量％的腐蚀抑制剂：腐蚀抑制剂选自：含氮环状化合物，所述含氮环状化合物选自1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、5-甲基苯并三唑、苯并三唑、1-羟基苯并三唑、4-羟基苯并三唑、4-氨基-4H-1,2,4-三唑、苯并咪唑；5-氨基三唑、苯并噻唑、三嗪硫醇、三嗪二硫醇和三嗪三硫醇；异氰脲酸酯及其组合。

参考文献

CN106085245B 低凹陷的铜化学机械抛光.